发明名称 铜箔、覆铜层压板以及基板
摘要 本发明公开了一种铜箔,其在表面形成有多个突起,集肤深度d(m)=√(1/(σ·μ·π·f))(其中,σ:导电率(S/m),μ:磁导率(H/m),f:电信号中所包括的频率(Hz))时,f≥5GHz,将上述突起的高度设为h(μm),将该突起的h/2高度位置处的宽度设为w(μm)时,h/d≥1的上述突起于每5μm长度的平均个数为1个以上,并且h/d≥1的上述突起中80%以上的上述突起符合w≥0.1μm且w/d<‑0.1h/d+1.4。
申请公布号 CN106574389A 申请公布日期 2017.04.19
申请号 CN201580032041.1 申请日期 2015.09.04
申请人 古河电气工业株式会社 发明人 井上大辅;奥野裕子;宇野岳夫;鸟光悟
分类号 C25D7/06(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;B32B15/08(2006.01)I;H05K1/09(2006.01)I 主分类号 C25D7/06(2006.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 宋融冰
主权项 一种铜箔,所述铜箔是高频电信号传输用铜箔,其特征在于:表面具有多个突起,集肤深度d(m)=√(1/(σ·μ·π·f)),其中,σ:导电率(S/m),μ:磁导率(H/m),f:上述高频电信号中所包括的频率(Hz)时,f≥5GHz,将上述突起的高度设为h(μm),将所述突起的h/2高度位置处的宽度设为w(μm)时,h/d≥1的上述突起于每5μm长度的平均个数为1个以上,并且,h/d≥1的上述突起中80%以上的上述突起符合w≥0.1μm且w/d<‑0.1h/d+1.4。
地址 日本东京都