| 发明名称 | 液体喷射装置以及擦拭方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种抑制了由喷嘴面的漏擦部分引起的被喷射介质的污染的液体喷射装置以及擦拭方法。所述液体喷射装置具备：液体喷射头(10)，其具有设置有对液体进行喷射的喷嘴(31)的喷嘴面；擦拭器(61)，其对所述喷嘴面进行擦拭；扫描机构，其使所述喷嘴面和所述擦拭器(61)实施多次所述喷嘴面与所述擦拭器(61)的相对移动；控制部，其对所述扫描机构进行控制，所述多次相对移动包括：作为针对所述喷嘴面中的所述喷嘴(31)的擦拭的第一相对移动；作为针对所述喷嘴面中的所述喷嘴(31)以外的擦拭的第二相对移动。 | ||
| 申请公布号 | CN106564282A | 申请公布日期 | 2017.04.19 |
| 申请号 | CN201610862551.8 | 申请日期 | 2016.09.28 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 武藤敦史 |
| 分类号 | B41J2/01(2006.01)I;B41J2/165(2006.01)I | 主分类号 | B41J2/01(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人 | 苏萌萌;范文萍 |
| 主权项 | 一种液体喷射装置，其特征在于，具备：液体喷射头，其具有设置有对液体进行喷射的喷嘴的喷嘴面；擦拭器，其对所述喷嘴面进行擦拭；扫描机构，其使所述喷嘴面和所述擦拭器实施多次所述喷嘴面与所述擦拭器的相对移动；控制部，其对所述扫描机构进行控制，所述多次相对移动包括：作为针对所述喷嘴面中的所述喷嘴的擦拭的第一相对移动；作为针对所述喷嘴面中的所述喷嘴以外的擦拭的第二相对移动。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||