基板清洗方法和基板清洗装置

摘要

本发明提供一种基板清洗方法，其能够清除基板上附着的异物，且防止基板和该基板上形成的膜的劣化。向附着有异物（22）且配置在几乎真空气氛中的晶片（W）以0.3MPa~2.0MPa中的任一压力喷雾清洗气体形成包含多个气体分子（20）的团簇（21），使该团簇（21）不离子化就向晶片（W）碰撞。

主权项

一种基板清洗方法，其特征在于：向附着有异物且配置于低压气氛中的基板喷雾与所述低压气氛相比为高压的气体，形成包含多个气体分子的团簇，通过使该团簇不离子化就向所述基板碰撞，不使气体分子被掺杂到形成在所述基板上的膜或所述基板本身，促进所述异物和所述气体分子的一部分的化学反应，并且通过将所述团簇的动能传递给所述异物，来促进所述异物和所述气体分子的一部分的化学反应，在所述团簇向所述基板碰撞时，加热所述基板。