发明名称 |
具有砜结构的含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物 |
摘要 |
一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物,其中,含有作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物,该硅烷为下述式(1)所示的化合物,〔(R<sup>1</sup>)<sub>a</sub>Si(R<sup>2</sup>)<sub>(3‑a)</sub>〕<sub>b</sub>(R<sup>3</sup>) 式(1) 式(1)中,R<sup>3</sup>表示含有磺酰基和吸光基、以Si‑C键与Si原子键合的有机基团,R<sup>1</sup>是烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、烷氧基芳基、酰基氧基芳基、异氰脲酸酯基、羟基、环状氨基或氰基的有机基团、或它们的组合,其表示以Si‑C键与Si原子键合的有机基团,R<sup>2</sup>表示烷氧基、酰基氧基或卤素基,a表示0~2的整数,b表示1~3的整数。 |
申请公布号 |
CN103748517B |
申请公布日期 |
2017.04.19 |
申请号 |
CN201280038944.7 |
申请日期 |
2012.08.10 |
申请人 |
日产化学工业株式会社 |
发明人 |
中岛诚;佐久间大辅;菅野裕太;岸冈高广 |
分类号 |
G03F7/11(2006.01)I;C08G77/28(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
段承恩;田欣 |
主权项 |
一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物,其中,含有作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物,该水解性有机硅烷为下述式(1)所示的化合物与选自式(3)和式(4)中的至少一种有机硅化合物的组合,[化1]〔(R<sup>1</sup>)<sub>a</sub>Si(R<sup>2</sup>)<sub>(3‑a)</sub>〕<sub>b</sub>(R<sup>3</sup>) 式(1)式(1)中,R<sup>3</sup>表示含有磺酰基和吸光基、以Si‑C键与Si原子键合的有机基团,R<sup>1</sup>是烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、烷氧基芳基、酰基氧基芳基、异氰脲酸酯基、羟基、环状氨基或氰基的有机基团、或它们的组合,其表示以Si‑C键与Si原子键合的有机基团,R<sup>2</sup>表示烷氧基、酰基氧基或卤素基,a表示0~2的整数,b表示1~3的整数,[化3]R<sup>1</sup><sub>a</sub>Si(R<sup>2</sup>)<sub>4‑a</sub> 式(3)式(3)中,R<sup>1</sup>表示烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、烷氧基芳基、酰基氧基芳基、异氰脲酸酯基、羟基、环状氨基或氰基的有机基团、或它们的组合,且其通过Si‑C键与硅原子键合,R<sup>2</sup>表示烷氧基、酰基氧基或卤素基,a表示0~3的整数,[化4]〔R<sup>1</sup><sub>c</sub>Si(R<sup>2</sup>)<sub>3‑c</sub>〕<sub>2</sub>Y<sub>b</sub> 式(4)式(4)中,R<sup>1</sup>表示烷基,R<sup>2</sup>表示烷氧基、酰基氧基或卤素基,Y表示亚烷基或亚芳基,b表示0或1的整数,c表示0或1的整数,上述式(1)的R<sup>3</sup>为下述式(2)所示的基团,[化2]<img file="FDA0001212336620000021.GIF" wi="1457" he="292" />式(2)中,R<sup>4</sup>、Ar<sup>1</sup>、R<sup>5</sup>、Ar<sup>2</sup>和R<sup>6</sup>中的1个~3个基团以Si‑C键与Si原子键合,R<sup>4</sup>表示可具有硫醚键或醚键的1价~4价的烃基,R<sup>5</sup>表示可具有硫醚键或醚键的2价~4价的烃基,R<sup>6</sup>表示可被取代的1价~4价的烃基,Ar<sup>1</sup>和Ar<sup>2</sup>分别表示可被取代的碳原子数6~20的亚芳基或芳基,n<sub>2</sub>表示整数1,n<sub>1</sub>、n<sub>3</sub>、n<sub>4</sub>和n<sub>5</sub>分别表示整数0或1,n<sub>4</sub>和n<sub>5</sub>不同时为整数0。 |
地址 |
日本东京都 |