发明名称 防反射膜及具备防反射膜的光学部件
摘要 本发明提供一种能够以较高生产率制造且具有充分的光学特性的防反射膜及具备该防反射膜的光学部件。在具有透光性的基材的表面上设置的防反射膜中,包括从基材(5)侧依次层叠的薄膜多层膜(20)及微细凹凸层(30),所述薄膜多层膜(20)由多层构成,所述微细凹凸层(30)具有以比使用光的波长短的平均间距形成的凹凸结构,且根据凹凸结构中的膜厚方向上的空间占有率的连续的变化而相对于使用光的折射率连续进行变化,多层中包括具有相对高的折射率的至少两种金属元素种类的氧化膜或硅和至少一种金属元素种类的氧化膜(21)及具有相对低的折射率的氮氧化膜(22)。
申请公布号 CN106574985A 申请公布日期 2017.04.19
申请号 CN201580045227.0 申请日期 2015.08.14
申请人 富士胶片株式会社 发明人 园田慎一郎;吉弘达矢;高桥裕树;金谷元隆
分类号 G02B1/115(2006.01)I;B32B3/30(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;B32B9/00(2006.01)I 主分类号 G02B1/115(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 刘文海
主权项 一种防反射膜,其设置在具有透光性的基材的表面上,其中,所述防反射膜包括从所述基材侧依次层叠的薄膜多层膜及微细凹凸层,所述薄膜多层膜由多个层构成,所述微细凹凸层在其表面具有平均间距比使用光的波长短的凹凸结构,且根据该凹凸结构中的所述薄膜多层膜的膜厚方向上的空间占有率的连续的变化,所述微细凹凸层的相对于所述使用光的折射率连续进行变化,所述多个层包括具有相对高的折射率的层及具有相对低的折射率的层,所述具有相对高的折射率的层由至少两种金属元素种类的氧化膜、或硅和至少一种金属元素种类的氧化膜构成,所述具有相对低的折射率的层由氮氧化膜构成。
地址 日本国东京都