发明名称 用于间歇式涂层的方法和装置
摘要 用于对运动的基底进行间歇式涂层的装置,该基底相对于装置沿运输方向U运动,该装置包括具有至少两个喷嘴颚的喷嘴主体,其中,在喷嘴颚之间设置具有凹口的嵌入膜,其中,在嵌入膜中的凹口形成在喷嘴主体之内的喷嘴缝,并且喷嘴缝横向于基底的运输方向U并且平行于基底延伸地在排出缝隙中终止,其中,排出缝隙经由喷嘴缝与输入通道流动连接,并且至少一个喷嘴颚设有至少两个通孔,其在输入通道和排出缝隙之间串联地通入喷嘴缝中并且分别借助可弹性变形的元件相对于喷嘴缝流体密封地闭合,其中,每个可弹性变形的元件一方面与喷嘴缝中的涂层材料并且另一方面与朝喷嘴缝的方向作用的致动器连接,其中,喷嘴颚的通孔依次朝涂层材料的流动方向q从输入通道到排出缝隙地布置。
申请公布号 CN106575743A 申请公布日期 2017.04.19
申请号 CN201580043848.5 申请日期 2015.08.07
申请人 卡尔斯鲁厄理工学院 发明人 P·沙佛;M·施密特;W·沙贝尔;R·蒂姆
分类号 H01M4/04(2006.01)I;H01M4/139(2010.01)I;H01M4/62(2006.01)I;B05C5/02(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)N;H01M6/40(2006.01)N;H01M10/052(2010.01)N 主分类号 H01M4/04(2006.01)I
代理机构 北京思益华伦专利代理事务所(普通合伙) 11418 代理人 彭臻臻;赵飞
主权项 一种用于对运动的基底进行间歇式涂层的装置,所述基底相对于所述装置沿运输方向U运动,所述装置包括具有至少两个喷嘴颚(101、102)的喷嘴主体(100),其中,在所述喷嘴颚(101、102)之间设置具有凹口的嵌入膜(108),其中,在所述嵌入膜(108)中的凹口形成在所述喷嘴主体(100)之内的喷嘴缝(103),并且所述喷嘴缝(103)横向于所述基底(170)的运输方向U并且平行于所述基底(170)延伸地在排出缝隙(130)中终止,其中,所述排出缝隙(130)经由所述喷嘴缝(103)与输入通道(107)流动连通,并且至少一个喷嘴颚(101、102)设有至少两个通孔(123a、123b),其在所述输入通道和排出缝隙(130)之间串联地通入所述喷嘴缝(103)中并且分别借助能弹性变形的元件(121a、121b)朝所述喷嘴缝(103)流体密封地闭合,其中,每个能弹性变形的元件(121a、121b)一方面与所述喷嘴缝(103)中的涂层材料并且另一方面与朝所述喷嘴缝(103)的方向作用的致动器(124a、124b)连接,其中,所述喷嘴颚(101、102)的通孔(123a、123b)在涂层材料的流动方向q上从所述输入通道(107)到所述排出缝隙(130)依次地布置。
地址 德国卡尔斯鲁厄