一种薄化触摸屏玻璃的生产工艺

摘要

本发明公开了一种薄化触摸屏玻璃的生产工艺，其具体步骤如下：(1)在厚度为0.05‑0.25mm的玻璃基板一面利用磁控溅射的方法镀上第一氧化铟锡ITO导电膜；再经过黄光蚀刻在第一氧化铟锡ITO导电膜表面形成配线；(2)第一氧化铟锡ITO导电膜的表面利用磁控溅射的方法成APC金属导电膜层；(3)利用旋涂法在APC金属导电膜层的表面涂抹形成第一OC绝缘保护膜层并形成图形；(4)第一OC绝缘保护膜层的表面再利用磁控溅射的方法成第二层氧化铟锡ITO导电膜；(5)利用旋涂法在第二层氧化铟锡ITO导电膜上涂抹形成第二层OC绝缘保护膜层并形成图形。本发明采用0.05‑0.25mm厚度的玻璃基板，透过率由常规厚度玻璃基板的86％提高到89％以上，同时可实现一定量的弯曲，具有可绕性。

主权项

一种薄化触摸屏玻璃的生产工艺，其特征在于，其具体步骤如下：(1)在厚度为0.05‑0.25mm的玻璃基板一面利用磁控溅射的方法镀上第一氧化铟锡ITO导电膜；再经过黄光蚀刻在第一氧化铟锡ITO导电膜表面形成配线；(2)第一氧化铟锡ITO导电膜的表面利用磁控溅射的方法成APC金属导电膜层；再经过黄光蚀刻在APC金属导电膜层上形成配线；(3)利用旋涂法在APC金属导电膜层的表面涂抹形成第一OC绝缘保护膜层并形成图形；(4)第一OC绝缘保护膜层的表面再利用磁控溅射的方法成第二层氧化铟锡ITO导电膜；再经过黄光蚀刻在第二层氧化铟锡ITO导电膜上形成配线；(5)利用旋涂法在第二层氧化铟锡ITO导电膜上涂抹形成第二层OC绝缘保护膜层并形成图形。