| 发明名称 | 清洗和灌装去离子水箱装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供了一种清洗和灌装去离子水箱装置，包括：用于承载所述去离子水箱的载台、用于清洗所述去离子水箱的清洗工作台、用于灌装所述去离子水箱的灌装工作台以及用于控制清洗作业和/或灌装作业运行的控制装置；所述清洗工作台、所述灌装工作台和所述控制装置设置于所述载台上。当需要清洗和灌装所述去离子水箱时，由所述控制装置分别控制所述清洗工作台和所述灌装工作台对所述去离子水箱进行清洗和灌装作业。本实用新型提供的清洗和灌装去离子水箱装置代替人工操作，大大减少人体劳动强度，提高了作业效率；另一方面，还方便了离子水箱的储存和运输。 | ||
| 申请公布号 | CN206083331U | 申请公布日期 | 2017.04.12 |
| 申请号 | CN201621084526.3 | 申请日期 | 2016.09.26 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 王晓晨;冯伟 |
| 分类号 | B08B9/093(2006.01)I;B65G65/32(2006.01)I;C02F1/28(2006.01)N | 主分类号 | B08B9/093(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 清洗和灌装去离子水箱装置，其特征在于，包括：用于承载所述去离子水箱的载台、用于清洗所述去离子水箱的清洗工作台、用于灌装所述去离子水箱的灌装工作台以及用于控制清洗作业和/或灌装作业运行的控制装置；所述清洗工作台、所述灌装工作台和所述控制装置设置于所述载台上。 | ||
| 地址 | 300385 天津市西青区中国天津市西青经济开发区兴华道19号 | ||