发明名称 |
环电极的钝化 |
摘要 |
一种喷墨设备包括:泵唧室,由壁界定;压电层,设置在所述泵唧室以上;环电极,具有设置在所述压电层上的环状较低部分。湿气阻挡层覆盖所述泵唧室之上的所述压电层的未由所述环电极的所述环状较低部分覆盖的其余部分。 |
申请公布号 |
CN104015482B |
申请公布日期 |
2017.04.12 |
申请号 |
CN201410066703.4 |
申请日期 |
2014.02.26 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
李有明;菱沼庆一;J·比克迈尔 |
分类号 |
B41J2/045(2006.01)I;H01L41/047(2006.01)I;H01L41/253(2013.01)I;C23C28/00(2006.01)I |
主分类号 |
B41J2/045(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
舒雄文;蹇炜 |
主权项 |
一种喷墨设备,包括:泵唧室,由壁界定;压电层,设置在所述泵唧室以上;环电极,具有环状较低部分和环状较高部分,所述环状较低部分设置在所述压电层上;以及湿气阻挡层,覆盖所述泵唧室之上的所述压电层的未由所述环电极的所述环状较低部分覆盖的其余部分,其中:所述环电极的所述环状较高部分包括环状内部较高部分和环状外部较高部分;所述环电极的所述环状较低部分包括环状内部较低部分和环状外部较低部分;所述环状内部较高部分从所述环状内部较低部分向内延伸,以覆盖所述湿气阻挡层的由所述环状内部较低部分围绕的部分,以及所述环状外部较高部分从所述环状外部较低部分向外延伸,以覆盖所述湿气阻挡层的围绕所述环状外部较低部分的部分。 |
地址 |
日本东京 |