发明名称 | 半导体装置的制造方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种半导体装置的制造方法。在半导体装置的制造方法中,在第1基板的一方的主面上设置第1粘接剂层。经由第2粘接剂层贴合第1基板和第2基板,对于第2粘接剂层,具有热硬化性,与贴合在第1基板的第2基板及第1基板之间的粘附力比与第1粘接剂层间的粘附力大,以及覆盖第1粘接剂层的表面。研磨第1基板的另一方的主面,薄化第1基板。向第2粘接剂层的周边部施加物理的力,形成沿着第2粘接剂层的外周的环状的切口部。在第1粘接剂和第2粘接剂的界面分离第1基板和第2基板。切口部形成为,外周位于比第2粘接剂层的外周更靠内侧,内周比第1粘接剂层的外周更靠内侧,并且,在与第2基板间留下第2粘接剂层。 | ||
申请公布号 | CN104064506B | 申请公布日期 | 2017.04.12 |
申请号 | CN201310364759.3 | 申请日期 | 2013.08.20 |
申请人 | 株式会社 东芝 | 发明人 | 高野英治 |
分类号 | H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 陈海红;段承恩 |
主权项 | 一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:在第1基板的一方的主面上设置第1粘接剂层;经由第2粘接剂层贴合上述第1基板和第2基板,其中,上述第2粘接剂层,具有热硬化性,与贴合在上述第1基板的上述第2基板及上述第1基板之间的粘附力比与上述第1粘接剂层间的粘附力大,并覆盖上述第1粘接剂层的表面;研磨上述第1基板的另一方的主面,薄化该第1基板;向上述第2粘接剂层的周边部施加物理的力,形成沿着该第2粘接剂层的外周的环状的切口部;固定上述第1基板侧,使上述第1粘接剂层和上述第2粘接剂层的界面剥离,从上述第1基板分离上述第2基板;其中,上述切口部形成为,外周位于比上述第2粘接剂层的外周更靠内侧且内周位于比上述第1粘接剂层的外周更靠内侧,并且,在与上述第2基板间留下上述第2粘接剂层。 | ||
地址 | 日本东京都 |