发明名称 用于高密度互连倒装晶片的底部填充料
摘要 底部填充料材料包含以其他有机成分(例如,具有环氧基、胺基或PMDA的有机物)官能化为具有反应性的无机填充材料(例如,官能化的CNT、有机粘土、ZnO)。底部填充料材料还有利地包含用反应性基团(例如,缩水甘油基)官能化的多面体低聚硅倍半氧烷和/或树枝状硅氧烷基团,所述反应性基团与所述底部填充料的环氧树脂体系的其他成分反应。
申请公布号 CN103937168B 申请公布日期 2017.04.12
申请号 CN201410085647.9 申请日期 2010.09.14
申请人 纳美仕有限公司 发明人 帕维尔·丘巴洛;铃木理;佐藤敏行
分类号 C08L63/02(2006.01)I;C08K13/06(2006.01)I;C08K9/04(2006.01)I;C08K7/00(2006.01)I;C08K3/04(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I;C08K3/34(2006.01)I;C08G59/30(2006.01)I;C08G59/32(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I;H01L23/29(2006.01)I 主分类号 C08L63/02(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王旭
主权项 一种底部填充料材料,所述底部填充料材料包含:树脂,所述树脂用至少第一反应性基团官能化,所述树脂包括三(缩水甘油氧基丙基二甲基硅烷氧基)‑苯基硅烷;和纳米填充材料,所述纳米填充材料用至少第二反应性基团官能化,所述第二反应性基团与所述树脂的所述第一反应性基团具有反应性,所述纳米填充材料包括季铵取代的粘土。
地址 日本新泻县