发明名称 制备高阻隔纳米无机非金属薄膜的真空卷绕镀膜设备
摘要 本实用新型公开了一种制备高阻隔纳米无机非金属薄膜的真空卷绕镀膜设备,包括:将待蒸镀材料放置于e型电子枪组蒸镀装置的电子枪环形坩埚中;将柔性基材设置于卷绕传动系统的放卷装置处,并按照卷绕走膜路径完成穿膜;对镀膜室的真空度调控,开启卷绕传动系统和e型电子枪组蒸镀装置,对待蒸镀材料高温蒸镀,以在柔性基材表面形成蒸镀薄膜,e型电子枪组由至少两台e型电子枪组合形成;e型电子枪的功率为1~10kW。本实用新型的蒸镀工艺中采用e型电子枪线性一行或对位错立的排列方式发射电子束,加快了蒸镀速率,提高了卷绕镀膜的生产速率,降低了生产成本,更重要的是获得了性能优良的纳米无机非金属氧化物高阻隔薄膜。
申请公布号 CN206089793U 申请公布日期 2017.04.12
申请号 CN201621165254.X 申请日期 2016.10.25
申请人 广东振华科技股份有限公司 发明人 潘振强
分类号 C23C14/30(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/10(2006.01)I 主分类号 C23C14/30(2006.01)I
代理机构 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 代理人 刘元霞;牛艳玲
主权项 一种制备高阻隔无机纳米非金属薄膜的真空卷绕镀膜设备,其特征在于,包括:卷绕传动装置,其包括放卷装置(10)和收卷装置(20),用于将柔性基材(30)从放卷装置(10)上开始放卷,并缠绕到收卷装置(20)上,使得其在一个具有制冷轴的表面伸开,暴露在蒸发源的蒸发区域;冷却装置(50),设置在待蒸发区域,其具有制冷轴,用于对蒸镀后的薄膜进行冷却;e型电子枪组蒸镀装置(40),作为蒸发源,其设置在蒸镀薄膜传输路线的待蒸发区域下方,用于盛放和加热待蒸发材料使其在蒸发区域蒸发,并在柔性基材(30)表面上形成蒸镀薄膜;离子源辅助沉积装置(60),设置在所述冷却装置(50)的后方,用于对冷却后的蒸镀薄膜进行轰击以提高其阻隔性能;所述e型电子枪组蒸镀装置(40)由多个电子枪坩埚组合形成。
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