发明名称 |
用于创建具有极端纵横比的空腔的方法和结构 |
摘要 |
实施例公开了用于创建具有极端纵横比的空腔的方法和结构,具体涉及用于更加高效和有效地刻蚀衬底和其它结构中的牺牲层和其它层的结构、系统和方法。在实施例中,其中牺牲层要被去除以例如形成空腔的衬底包括刻蚀分散系统,刻蚀分散系统包括其中刻蚀气体或另一适合的气体、流体或物质可以流动以渗透衬底并且去除牺牲层的沟槽、通道或其它结构。沟槽、通道或其它结构可以连同形成在衬底中的(诸如接近衬底的一个或多个边缘的)开口或其它孔一起被实现,以甚至更快地在衬底内分散刻蚀气体或一些其它物质。 |
申请公布号 |
CN104445050B |
申请公布日期 |
2017.04.12 |
申请号 |
CN201410480277.9 |
申请日期 |
2014.09.18 |
申请人 |
英飞凌技术德累斯顿有限责任公司 |
发明人 |
T·考茨施;H·弗雷利施;M·施特格曼;M·福格特 |
分类号 |
B81C1/00(2006.01)I;B81B7/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81C1/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
王茂华 |
主权项 |
一种刻蚀分散系统,其被形成在衬底中并且包括:至少一个分散孔,其在刻蚀材料被施加之前被形成在所述衬底中并且被配置用于提供所述刻蚀材料到所述衬底的牺牲层的通路;和至少一个分散通道,其在所述刻蚀材料被施加之前被形成在所述衬底的接近所述牺牲层的层中,并且被配置为促进所述刻蚀材料在所述衬底内的分散。 |
地址 |
德国德累斯顿 |