粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置

摘要

本发明的目的在于获得可消除扫描电磁铁的磁滞影响且可实现高精度射束照射的粒子射线照射装置。包括：磁场传感器(20)，该磁场传感器(20)对扫描电磁铁(3)的磁场进行测定；以及照射控制装置(5)，该照射控制装置(5)对通过扫描电磁铁(3)的带电粒子束(1b)的射出量进行控制。照射控制装置(5)对于多个矩形区域(S_i,j)的每一个求出通过多个矩形区域(S_i,j)的带电粒子束(1b)的剂量的累计值，并基于每个矩形区域(S_i,j)的累计值对带电粒子束(1b)的射出量进行控制。

主权项

一种粒子射线照射装置，其对由加速器进行加速的带电粒子束进行扫描，具备具有磁滞的扫描电磁铁，将通过所述扫描电磁铁的所述带电粒子束照射至照射对象，其特征在于，该粒子射线照射装置包括：磁场传感器，该磁场传感器对所述扫描电磁铁的磁场进行测定；以及照射控制装置，该照射控制装置对通过所述扫描电磁铁的所述带电粒子束的射出量进行控制，由所述磁场传感器所测定出的X方向及Y方向的磁场来定义多个矩形区域，所述照射控制装置求出通过各矩形区域的所述带电粒子束的剂量的累计值，并基于各矩形区域的所述累计值来控制所述带电粒子束的射出量。