| 发明名称 | AMOLED结构及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种AMOLED结构及其制作方法。该AMOLED结构包括基板、TFT电路层、主板电路层、OLED器件层、第一封装层、以及第二封装层，所述基板包括相对的顶面和底面，所述TFT电路层设于所述基板的顶面，所述主板电路层设于所述基板的底面，所述OLED器件层设于所述TFT电路层之上，所述第一封装层包覆所述TFT电路层和所述OLED器件层，所述第二封装层包覆所述主板电路层。本发明可有效利用基板空间，同时具有减薄AMOLED厚度的效果。 | ||
| 申请公布号 | CN104201191B | 申请公布日期 | 2017.04.12 |
| 申请号 | CN201410429175.4 | 申请日期 | 2014.08.28 |
| 申请人 | 上海和辉光电有限公司 | 发明人 | 邓学易 |
| 分类号 | H01L27/32(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海唯源专利代理有限公司 31229 | 代理人 | 曾耀先 |
| 主权项 | 一种AMOLED结构，其特征在于，包括硅片、TFT电路层、主板电路层、OLED器件层、第一封装层、以及第二封装层，所述硅片包括相对的顶面和底面，所述TFT电路层设于所述硅片的顶面，所述主板电路层设于所述硅片的底面，所述OLED器件层设于所述TFT电路层之上，所述第一封装层包覆所述TFT电路层和所述OLED器件层，所述第二封装层包覆所述主板电路层。 | ||
| 地址 | 201508 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室 | ||