发明名称 制造磁极和护罩的方法
摘要 本发明涉及一种制造用于数据存储系统的磁记录换能器的过程,该过程包括提供衬底、下层以及在下层上沉积至第一厚度并与所述下层接触的第一非磁性中间层,在第一中间层的第一部分上执行第一扫描抛光以平面化第一中间层的第一部分至第二厚度,在平面化的第一中间层的第一部分中提供主磁极,提供位于第一中间层的第一部分上并与其接触的光阻材料的第一图案,该图案包括限定侧面护罩沟槽的孔隙,执行湿蚀刻以去除第一中间层的至少部分从而暴露多个主磁极侧面中的至少一个,以及在侧面护罩沟槽中沉积侧面护罩材料。
申请公布号 CN102820038B 申请公布日期 2017.04.12
申请号 CN201210182781.1 申请日期 2012.06.05
申请人 西部数据(弗里蒙特)公司 发明人 M·蒋;R·周;G·罗;M·大杉;D·杨
分类号 G11B5/10(2006.01)I;G11B5/127(2006.01)I 主分类号 G11B5/10(2006.01)I
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人 赵蓉民
主权项 一种制造用于数据存储系统的磁记录换能器的方法,所述磁记录换能器具有主磁极,其中所述主磁极包括磁极顶部、多个侧面以及毗邻所述多个侧面中的至少一个的护罩,该方法包括:提供衬底、下层和第一非磁性中间层,所述第一非磁性中间层在所述下层上沉积至第一厚度并与所述下层接触;在所述第一非磁性中间层的第一部分上执行第一扫描抛光以平面化所述第一非磁性中间层的所述第一部分至第二厚度;在所述第一非磁性中间层的所述第一部分中提供多个沟槽;在平面化的所述第一非磁性中间层的所述第一部分中的所述多个沟槽中提供多个主磁极;提供位于所述第一非磁性中间层的所述第一部分上并与其接触的光阻材料的第一图案,所述图案包括限定侧面护罩沟槽的孔隙;执行湿蚀刻以去除所述第一非磁性中间层的至少一部分,从而暴露所述多个主磁极侧面中的至少一个,以及在所述侧面护罩沟槽中沉积侧面护罩材料。
地址 美国加利福尼亚州