一种大理石专用抛光机

摘要

本实用新型公开了一种大理石专用抛光机，包括基座，所述基座内腔设有PLC控制器，所述基座外壁设有步进电机一，所述基座顶部分别设有支撑臂与缓冲层，所述缓冲层内腔设有若干个弹簧，所述缓冲层顶部设有传送皮带，所述传送皮带两端分别设有一个限位片，所述限位片上设有定位销，所述支撑臂外壁一侧设有大功率风机，所述支撑臂外壁另一侧设有水平动力调节装置，所述支撑臂内壁一侧设有滑轨，所述滑轨两端设有限位块，所述滑轨上连接有传动轴，通过设有水平动力调节装置使得传动轴可以水平方向运动，使干磨头与水磨头可以在水平方向移动工作，通过设有缓冲层与弹簧可以使大理石在放入传送皮带时降低振动程度，保护整个机体。

主权项

一种大理石专用抛光机，包括基座（1），其特征在于，所述基座（1）内腔设有PLC控制器（2），所述基座（1）外壁设有步进电机一（3），所述基座（1）顶部分别设有支撑臂（4）与缓冲层（5），所述缓冲层（5）内腔设有若干个弹簧（6），所述缓冲层（5）顶部设有传送皮带（7），所述传送皮带（7）两端分别设有一个限位片（8），所述限位片（8）上设有定位销（9），所述支撑臂（4）外壁一侧设有大功率风机（10），所述支撑臂（4）外壁另一侧设有水平动力调节装置（11），所述支撑臂（4）内壁一侧设有滑轨(12)，所述滑轨(12)两端设有限位块（13），所述滑轨（12）上连接有传动轴（14），所述传动轴（14）一端连接有步进电机二（15），所述步进电机二（15）顶部设有高度调节装置（16），所述传动轴（14）另一端连接有U型支架（17），所述U型支架（17）上设有水箱（18），所述U型支架（17）一端分别设有干磨头（19）与水磨头（20）。