发明名称 用于晶圆加工薄膜的粘合剂组合物
摘要 本发明涉及用于晶圆加工薄膜的粘合剂组合物、晶圆加工薄膜和半导体晶圆加工方法。在半导体晶圆加工过程如切割过程或背磨过程中,关于附着晶圆的层离力可有效降低,以提高加工效率并避免晶圆弯曲或破裂。
申请公布号 CN104204126B 申请公布日期 2017.04.12
申请号 CN201280008380.2 申请日期 2012.03.07
申请人 株式会社LG化学 发明人 金章淳
分类号 C09J133/04(2006.01)I;C09J7/02(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I 主分类号 C09J133/04(2006.01)I
代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 巩克栋;杨生平
主权项 用于晶圆加工薄膜的粘合剂组合物,包括:丙烯酸类聚合物;和光敏气体发生剂,所述光敏气体发生剂为肟酯基化合物;丙烯酸类聚合物以聚合形态包含(甲基)丙烯酸酯单体,具有可交联的官能团的可共聚单体和由化学式1表示的其他可共聚单体,化学式1<img file="FDA0001225004770000011.GIF" wi="319" he="286" />其中R<sub>1</sub>‑R<sub>3</sub>各自独立地为H或烷基,R<sub>4</sub>为含氰基;用烷基取代或未取代的苯基;乙酰氧基;或COR<sub>5</sub>,其中R<sub>5</sub>是用烷基或烷氧基烷基取代或未取代的氨基或含氧缩水甘油基;基于100重量份的丙烯酸类聚合物,光敏气体发生剂的量为1.0重量份‑10重量份;进一步包括:多官能交联剂;基于100重量份的丙烯酸类聚合物,所包含的多官能交联剂的量为0.1重量份‑10重量份。
地址 韩国首尔