| 发明名称 | 偏光膜 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种偏光膜。本发明提供一种制造具有优异的光学特性的偏光膜的方法。本发明的偏光膜的制造方法包括：在热塑性树脂基材(11)上形成聚乙烯醇系树脂层(12)制作层叠体(10)的工序；用碘将层叠体(10)的聚乙烯醇系树脂层(12)染色的工序；拉伸层叠体(10)的工序；在染色工序和拉伸工序之后，用透湿度为100g/m<sup>2</sup>·24h以下的覆盖薄膜覆盖层叠体(10)的聚乙烯醇系树脂层(12)表面，在该状态下加热层叠体(10)的工序。 | ||
| 申请公布号 | CN104155713B | 申请公布日期 | 2017.04.12 |
| 申请号 | CN201410382826.9 | 申请日期 | 2011.11.29 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 后藤周作;泽田浩明;喜多川丈治;宫武稔 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I;B29C55/02(2006.01)I;B29C55/06(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种偏光膜，其利用包含下述工序的偏光膜的制造方法而得到：在热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇系树脂层制作层叠体的工序；用碘对该层叠体的聚乙烯醇系树脂层进行染色的工序；拉伸该层叠体的工序；在该染色工序和拉伸工序之后，用透湿度为100g/m<sup>2</sup>·24h以下的覆盖薄膜覆盖该层叠体的聚乙烯醇系树脂层表面，在该状态下加热该层叠体的工序。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||