| 发明名称 | Gas nozzle substrate processing apparatus | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | USD783351(S1) | 申请公布日期 | 2017.04.11 |
| 申请号 | US201529544977F | 申请日期 | 2015.11.09 |
| 申请人 | HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. | 发明人 | Fujino Toshiki;Takagi Kosuke;Sasajima Ryota |
| 分类号 | 23-03 | 主分类号 | 23-03 |
| 代理机构 | Fitch, Even, Tabin & Flannery, LLP | 代理人 | Fitch, Even, Tabin & Flannery, LLP |
| 主权项 | We claim the ornamental design for a gas nozzle substrate processing apparatus, as shown and described. | ||
| 地址 | Tokyo JP | ||