发明名称 Substratträger, Bearbeitungsanordnung und Verfahren
摘要 Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substratträger (100a) Folgendes enthalten: einen Substratstützbereich (111) zum Stützen eines Substrats; wobei ein erster Abschnitt (102) des Substratstützbereichs (111) ein Porennetz (113) aus wenigstens teilweise miteinander verbundenen Poren enthält; wobei ein zweiter Abschnitt (104) des Substratstützbereichs (111) den ersten Abschnitt (102) umgibt und ein Dichtungselement (104e) zum Bereitstellen einer Kontaktdichtung enthält; wenigstens eine Evakuierungsöffnung (106) zum Erzeugen eines Unterdrucks in dem Porennetz (113), so dass ein über dem Substratstützbereich (111) aufgenommenes Substrat durch Saugen anhaftet; und wenigstens ein Ventil (108), das konfiguriert ist, eine Verbindung zwischen dem Porennetz (113) und der wenigstens einen Evakuierungsöffnung (106) zu steuern, so dass in dem Porennetz (113) ein Unterdruck aufrechterhalten werden kann, wobei das Porennetz (113) eine erste Poreneigenschaft in einem ersten Bereich (113a) und eine zweite Poreneigenschaft in einem zweiten Bereich (113b), die von der ersten Poreneigenschaft verschieden ist, umfasst.
申请公布号 DE102016118646(A1) 申请公布日期 2017.04.06
申请号 DE201610118646 申请日期 2016.09.30
申请人 Infineon Technologies AG 发明人 Santos Rodriguez, Francisco Javier;Kern, Ronny;Rupp, Roland;Unterweger, Josef
分类号 H01L21/683 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人
主权项
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