发明名称 Verfahren und Vorrichtung zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement und Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterbauelements mit Hochspannung
摘要 Verfahren (100) zum Anlegen einer Hochspannung an ein Halbleiterbauelement (205), aufweisend: • Erzeugen einer Niederspannung an einer von einem Halbleiterbauelement (205), an das eine Hochspannung anzulegen ist, räumlich entfernten Position (101), wobei die Niederspannung so gewählt ist, dass in einem mit ihr beaufschlagten Vorrichtungsteil unter Normalbedingungen keine Spannungsüberschläge zu erwarten sind; • Zuleiten der Niederspannung zu einer dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position (102); • Erzeugen einer Hochspannung aus der zugeleiteten Niederspannung an der dem Halbleiterbauelement räumlich benachbarten Position (103), wobei die Hochspannung größer als die Niederspannung ist, und wobei die Hochspannung größer als 300 Volt ist; und • Anlegen der Hochspannung an das Halbleiterbauelement (104).
申请公布号 DE102008048879(B4) 申请公布日期 2017.04.06
申请号 DE20081048879 申请日期 2008.09.25
申请人 Infineon Technologies AG 发明人 Holmer, Rainer, Dr.;Poeppel, Gerhard
分类号 G01R31/26;G01R31/28 主分类号 G01R31/26
代理机构 代理人
主权项
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