| 摘要 |
Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit • wenigstens einem optischen Element (110, 210); und • einem Stützelement (120, 220) für das optische Element (110, 210); • wobei das optische Element (110, 210) und das Stützelement (120, 220) miteinander über wenigstens drei Entkopplungselemente (131, 132, 133; 231, 232, 233) verbunden sind, wobei diese Entkopplungselemente (131, 132, 133; 231, 232, 233) entlang einer Umfangsrichtung angeordnet sowie radial zwischen dem optischen Element (110, 210) und dem Stützelement (120, 220) angeordnet sind; und • wobei die Entkopplungselemente (131, 132, 133; 231, 232, 233) mit dem optischen Element (110, 210) und mit dem Stützelement (120, 220) monolithisch ausgebildet sind. |
