| 发明名称 | 高纯度铜电解精炼用添加剂、高纯度铜制法及高纯度电解铜 | ||
| 摘要 | 本发明提供高纯度铜电解精炼用添加剂、高纯度铜制法及高纯度电解铜。该高纯度铜电解精炼用添加剂包括电解铜的银氯降低剂，所述银氯降低剂由四唑或四唑衍生物(被称为四唑类)构成，被添加到铜电解精炼的铜电解液中。 | ||
| 申请公布号 | CN106555208A | 申请公布日期 | 2017.04.05 |
| 申请号 | CN201610862243.5 | 申请日期 | 2016.09.28 |
| 申请人 | 三菱综合材料株式会社 | 发明人 | 樽谷圭荣;久保田贤治;中矢清隆 |
| 分类号 | C25C1/12(2006.01)I | 主分类号 | C25C1/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人 | 康泉;王珍仙 |
| 主权项 | 一种高纯度铜电解精炼用添加剂，其特征在于，其包括电解铜的银氯降低剂，所述银氯降低剂由四唑或四唑衍生物构成，被添加到铜电解精炼的铜电解液中，所述四唑或所述四唑衍生物被称为四唑类。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||