发明名称 一种湿制程设备清洗方法及装置
摘要 本发明适用于湿制程设备技术领域,提供了一种湿制程设备清洗方法及装置,所述方法包括:启动湿制程设备的清洗程序;调用清洗步骤组合中的参数组,所述参数组包括子液的加液量,所述子液为添加进清洗液中的液体;根据所述清洗步骤组合中的清洗步骤的顺序,依次根据所述加液量添加子液至清洗液中,并根据所述清洗步骤的顺序自动清洗所述湿制程设备。在本发明中,通过加液量替代高度,简化了计算,降低了对操作员工要求,可以快速使得清洗液浓度调整到目标值,快速进行清洗,用户也可手动输入需要添加的加液量,从而提高了用户操作效率和清洗的效率。
申请公布号 CN104841662B 申请公布日期 2017.04.05
申请号 CN201410056431.X 申请日期 2014.02.19
申请人 宇宙电路板设备(深圳)有限公司 发明人 陈德和
分类号 B08B3/08(2006.01)I 主分类号 B08B3/08(2006.01)I
代理机构 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人 张全文
主权项 一种湿制程设备清洗方法,其特征在于,包括:启动湿制程设备的清洗程序;调用清洗步骤组合中的参数组,所述参数组包括子液的加液量,所述子液为添加进清洗液中的液体;根据所述清洗步骤组合中的清洗步骤的顺序,依次根据所述加液量添加子液至清洗液中,并根据所述清洗步骤的顺序自动清洗所述湿制程设备;其中,当调整所述清洗液的浓度时,获取所述清洗液的高度,根据预先建立的清洗液的高度与转换系数的对应关系,查找与获取到的清洗液的高度对应的转换系数,根据所述高度、所述转换系数以及所述湿制程设备的底面积的乘积,生成与所述清洗液的浓度对应的加液量。
地址 518000 广东省深圳市龙岗区龙岗爱联龙腾工业区宇宙电路板设备(深圳)有限公司