发明名称 自对准多重图案化布局设计
摘要 本发明提供了执行设局布局的一种或更多种技术和系统。初始的设计布局与电器部件(诸如,标准单元)相关。该初始的设计布局包括第一图案(诸如,芯轴图案)和第二图案(诸如,被动填充图案)。生成用于初始设计布局的初始切割图案。响应与初始切割图案相关的设计规则违背识别而修改初始设计布局从而生成修改的初始设计布局。基于修改的初始设计布局生成更新的切割图案,但不导致设计规则违背。更新的切割图案被应用于更新的初始设计布局从而生成最终的设计布局。最终的设计布局被验证为自对准多重图案化(SAMP)兼容。本发明还提供了一种自对准多重图案化布局设计。
申请公布号 CN103970923B 申请公布日期 2017.04.05
申请号 CN201310150925.X 申请日期 2013.04.26
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 陈皇宇;田丽钧;谢艮轩;王植键;徐金厂;许钦雄;苏品岱;刘如淦;鲁立忠
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人 章社杲;孙征
主权项 一种执行设计布局的方法,包括:接收电气部件的初始设计布局,所述初始设计布局包括用于形成第一组一个或多个多边形的并与芯轴图案处理相关的第一图案,其中,所述第一图案利用第一图案掩模;和用于形成第二组的一个或多个多边形的并与被动填充图案处理相关的第二图案,所述第二图案利用不同于所述第一图案掩模的第二图案掩模;基于所述第一图案和所述第二图案生成所述初始设计布局的初始切割图案;响应于对与所述初始切割图案相关的设计规则违例的识别,修改所述初始设计布局,以生成经过修改的初始设计布局,包括将被动图案附设部添加给所述第二组的第一多边形;基于所述经过修改的初始设计布局,生成不会导致所述设计规则违例的更新切割图案;以及将所述更新切割图案应用于所述经过修改的初始设计布局,以生成第二设计布局。
地址 中国台湾新竹