| 发明名称 | 蚀刻剂组合物，铜基金属层的蚀刻方法，阵列基板制作方法及该方法制作的阵列基板 | ||
| 摘要 | 本公开涉及用于金属层的蚀刻剂组合物，用于使用所述组合物蚀刻铜基金属层的方法，用于制作用于液晶显示装置的阵列基板的方法，和用于使用所述制作方法制作的用于液晶显示装置的阵列衬底，其中所述用于金属层的蚀刻剂组合物包括：(a)磷酸；(b)硝酸；(c)醋酸；(d)含氟化合物；(e)硫酸类化合物；和(f)水，其中所述(e)硫酸类化合物具有pKa值为‑1至5。 | ||
| 申请公布号 | CN106555187A | 申请公布日期 | 2017.04.05 |
| 申请号 | CN201610839181.6 | 申请日期 | 2016.09.21 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 权玟廷;鞠仁说;尹暎晋 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I;C23F1/02(2006.01)I;H01L21/77(2017.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京度衡知识产权代理有限公司 11601 | 代理人 | 杨黎峰;钟锦舜 |
| 主权项 | 用于金属层的蚀刻剂组合物，包括：(a)磷酸；(b)硝酸；(c)醋酸；(d)含氟化合物；(e)硫酸类化合物；和(f)水，其中，所述(e)硫酸类化合物具有pKa值为‑1至5。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道 | ||