| 发明名称 | 一种气密环、真空闸阀、磁控溅射装置和膜层 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种气密环、真空闸阀、磁控溅射装置和膜层，用以增加气密环的形变量，从而解决由于长期磨损按压造成气密环的产生形变而导致的真空腔室密封不严的问题。所述气密环用于与真空腔室压合的面相邻的侧面具有锯齿状结构。 | ||
| 申请公布号 | CN206072342U | 申请公布日期 | 2017.04.05 |
| 申请号 | CN201621110264.3 | 申请日期 | 2016.10.10 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 张继坡;赵欣凯;王亚非;周亚凯;付艳强;孙新 |
| 分类号 | F16J15/14(2006.01)I;F16K51/02(2006.01)I | 主分类号 | F16J15/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种气密环，其特征在于，所述气密环用于与真空腔室压合的面相邻的侧面具有锯齿状结构。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||