一种晶圆支撑件的清洗装置及清洗方法

摘要

本发明公开了一种晶圆支撑件的清洗装置及清洗方法，包括第一组晶圆支撑件以及第二组晶圆支撑件，其中，交替使用第一组晶圆支撑件以及第二组晶圆支撑件，当第一组晶圆支撑件处于伸出状态时，则第二组晶圆支撑件处于收缩状态，或当第一组晶圆支撑件处于收缩状态时，则第二组晶圆支撑件处于伸出状态。本发明通过交替使用第一组晶圆支撑件以及第二组晶圆支撑件，当其中的一组晶圆支撑件支撑晶圆时，另一组晶圆支撑件则与清洗液充分接触，使晶圆支撑件始终保持良好的清洁度，避免晶圆支撑件上的污垢污染晶圆，降低了晶圆缺陷，提高了晶圆的良率。

主权项

一种晶圆支撑件的清洗装置，包括用于清洗半导体晶圆的清洗槽，其特征在于，第一组晶圆支撑件，设于所述清洗槽内，并可在所述清洗槽中做垂直方向的伸缩运动，所述第一组晶圆支撑件处于伸出状态时，其用于支撑晶圆，所述第一组晶圆支撑件收缩状态时，其与所述清洗槽内的清洗液充分接触，以去除其表面污垢；第二组晶圆支撑件，设于所述清洗槽内，并可在所述清洗槽中做垂直方向的伸缩运动，所述第二组晶圆支撑件处于伸出状态时，其用于支撑晶圆，所述第二组晶圆支撑件收缩状态时，其与所述清洗槽内的清洗液充分接触，以去除其表面污垢；其中，交替使用第一组晶圆支撑件以及第二组晶圆支撑件，当第一组晶圆支撑件处于伸出状态时，则第二组晶圆支撑件处于收缩状态，或当第一组晶圆支撑件处于收缩状态时，则第二组晶圆支撑件处于伸出状态。