发明名称 用于单晶超级合金和金属的直写的设备和方法
摘要 提供了用于单晶超级合金和金属的直写的方法。本方法可包括:使用第一加热器(24)将位于底板(22)上的基底(23)加热到预定温度;使用激光(26)在基底(23)表面上形成熔池(34);将超级合金粉末(32)引入到熔池(34);测定熔池(34)的温度;在控制器(40)处接收测定的温度;和使用与控制器(40)连通的辅助热源(41)以调节熔池(34)的温度。预定温度低于基底的熔点。激光(26)和底板(22)能够相对于彼此移动,其中激光(26)用于直接金属沉积。也大体上提供用于单晶超级合金和金属的直写的设备(20)。
申请公布号 CN106552939A 申请公布日期 2017.04.05
申请号 CN201611051382.6 申请日期 2016.08.20
申请人 通用电气公司 发明人 W·T·卡特;T·J·罗克斯特罗;D·G·科尼策尔
分类号 B22F3/105(2006.01)I;C30B29/52(2006.01)I;B33Y10/00(2015.01)I;B33Y30/00(2015.01)I 主分类号 B22F3/105(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 严志军;谭祐祥
主权项 一种用于单晶超级合金和金属的直写的方法,所述方法包括:使用第一加热器(24)将基底(23)加热到预定温度,其中,所述预定温度低于所述基底的熔点;使用激光(26)在所述基底(23)的表面上形成熔池(34),其中,所述基底(23)位于底板(22)上,并且其中,所述激光(26)和所述底板(22)能够相对于彼此移动,所述激光(26)用于直接金属沉积;将超级合金粉末(32)引入到所述熔池(34);测定所述熔池(34)的温度;在控制器(36)处接收测定的温度;和使用与所述控制器(36)连通的辅助热源(41)来调节所述熔池(34)的温度。
地址 美国纽约州