发明名称 |
一种可缩短化学气相沉积机台达到稳定状态时间的喷淋头 |
摘要 |
一种可缩短化学气相沉积机台达到稳定状态时间的喷淋头,主要解决现有的化学气相沉积机台达到稳定状态时间长的问题,本发明提供一种可缩短化学气相沉积机台达到稳定状态时间的喷淋头,所述喷淋头与载物台形成相对面,设置于反应腔室中,从喷淋头以喷淋状向载物台进行气体供给,该喷淋头包括喷淋板上表面,喷淋板下表面及多个通孔,所述喷淋板上表面与喷淋板下表面之间设有多个通孔;所述喷淋板下表面所有区域的表面均进行粗糙处理后的粗糙度为0.8-1.1微米。本发明的喷淋头能够简单有效地缩短腔体稳定时间。 |
申请公布号 |
CN106555172A |
申请公布日期 |
2017.04.05 |
申请号 |
CN201510628464.1 |
申请日期 |
2015.09.28 |
申请人 |
沈阳拓荆科技有限公司 |
发明人 |
陈刚;于棚;常晓娜 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 |
代理人 |
甄玉荃;陈福昌 |
主权项 |
一种可缩短化学气相沉积机台达到稳定状态时间的喷淋头,所述喷淋头与载物台形成相对面,设置于反应腔室中,从喷淋头以喷淋状向载物台进行气体供给,其特征在于,该喷淋头设有喷淋板上表面,喷淋板下表面及多个通孔,所述喷淋板上表面与喷淋板下表面之间设有多个通孔;所述喷淋板下表面所有区域的表面经过粗糙处理后的粗糙度为0.8‑1.1微米。 |
地址 |
110179 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层 |