发明名称 SPIEGEL, LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER LITHOGRAPHIEANLAGE
摘要 Es wird ein Spiegel (200) für eine Lithographieanlage (100) offenbart, welcher einen Spiegelkörper (204), und mindestens eine Anschlussanordnung (206), welche über mindestens eine Befestigungsstelle (302) mit dem Spiegelkörper (204) verbunden ist, aufweist. Die Anschlussanordnung (206) weist eine erste Schnittstelle (314) zum Verbinden des Spiegels (200) mit einem Halterahmen (400) eines Prüfturms (412) und eine zweite Schnittstelle (316) zum Verbinden des Spiegels (200) mit einem Halterahmen (500) eines optischen Systems (508) auf.
申请公布号 DE102016206113(A1) 申请公布日期 2017.03.30
申请号 DE201610206113 申请日期 2016.04.13
申请人 Carl Zeiss SMT GmbH 发明人 Marsollek, Pascal
分类号 G02B7/182;G01M11/00;G02B5/08;G03F7/20 主分类号 G02B7/182
代理机构 代理人
主权项
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