发明名称 一种具有双稳态结构的肖特基二极管设计方法
摘要 本发明公开了一种具有双稳态结构的肖特基二极管设计方法,步骤包括:从铜体相中得到纯净的Cu(111)表面;利用DFT计算方法对其结构进行优化得到其晶格常数,并与实验值比较;构建出anthradithiophene(ADT)分子,并对其进行结构优化;再将优化好的ADT分子放在优化好的Cu(111)面的多种不同位置上,分别对其结构进行优化;检查优化好的结果,并且找出能够稳定存在的结构;单独计算吸附前优化好的ADT分子的禁带宽以及界面偶极得到其肖特基高度。本发明通过新颖而又精确的DFT计算方法,结合实验数据,使得设计出的肖特基二极管稳定性高,肖特基能垒低,且兼具物理和化学吸附的双重优点。
申请公布号 CN106549104A 申请公布日期 2017.03.29
申请号 CN201610953554.2 申请日期 2016.10.27
申请人 南京理工大学 发明人 刘伟;苏桂荣;杨沙;李爽
分类号 H01L51/05(2006.01)I 主分类号 H01L51/05(2006.01)I
代理机构 南京理工大学专利中心 32203 代理人 邹伟红;朱显国
主权项 一种具有双稳态结构的肖特基二极管设计方法,其特征在于,所述设计方法至少包括以下步骤:(1)从铜体相中得到纯净的8×4×5的Cu(111)表面,对其结构进行优化得到其晶格常数和费米能级大小;(2)构建出ADT分子,对其结构进行优化,得到其禁带宽;(3)再将优化后的ADT分子吸附在优化后的Cu(111)面不同位置上,再分别对其结构进行优化;(4)检查其结果,并且找出能够稳定存在的结构;(5)计算该稳定存在结构的界面偶极矩,确定其肖特基高度。
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