发明名称 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置
摘要 本发明的目的在于通过不使用团块而提高深度方向上的照射自由度,从而解决粒子射线治疗装置中的IMRT的过量照射问题。粒子射线照射装置(58)包括扫描照射系统(34)和生成柱状照射野的柱状照射野生成装置(4),并安装于使带电粒子束(1)的照射方向旋转的旋转机架,柱状照射野生成装置根据照射对象的末端形状,生成具有一个SOBP宽度的柱状的照射野,并在照射对象的内侧生成具有不同的SOBP宽度的柱状的照射野,扫描照射系统进行扫描照射,以铺满具有一个SOBP宽度的柱状的照射野,使得与照射对象的末端形状一致,并在柱状的照射野的内侧铺满具有不同的SOBP宽度的柱状的照射野。
申请公布号 CN103794261B 申请公布日期 2017.03.29
申请号 CN201410058032.7 申请日期 2011.03.31
申请人 三菱电机株式会社 发明人 岩田高明
分类号 G21K1/02(2006.01)I;G21K1/10(2006.01)I;A61N5/10(2006.01)I 主分类号 G21K1/02(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 俞丹
主权项 一种粒子射线照射装置,包括扫描照射系统,并安装于使带电粒子束的照射方向旋转的旋转机架,所述扫描照射系统利用分别在垂直于照射方向的X方向及Y方向上进行扫描的X方向扫描电磁体及Y方向扫描电磁体,在所述X方向及所述Y方向上对由加速器进行了加速的所述带电粒子束进行扫描并照射到照射对象上,其特征在于,所述粒子射线照射装置包括柱状照射野生成装置,该柱状照射野生成装置扩大所述带电粒子束的布喇格峰值,来生成柱状的照射野,所述柱状的照射野在所述带电粒子束的照射方向上的宽度为SOBP宽度,该柱状的照射野在所述带电粒子束的照射方向上的宽度比所述带电粒子束在所述X方向及所述Y方向上的宽度要长,所述带电粒子束在所述X方向及所述Y方向上的宽度是进行一次治疗照射时所选择的单一尺寸,所述柱状照射野生成装置根据所述带电粒子束所照射的照射对象的末端形状,生成具有一个所述SOBP宽度的所述柱状的照射野以使其与所述照射对象的末端形状一致,当存在残留的照射对象的区域时,对于残留的照射对象的区域,生成具有不同的所述SOBP宽度的所述柱状的照射野,使其与残留的照射对象的末端形状一致,所述扫描照射系统进行扫描照射,以铺满所述柱状照射野生成装置所生成的所述柱状的照射野,使得与照射对象的末端形状一致,从而使所述柱状的照射野覆盖整个照射对象。
地址 日本东京