发明名称 |
一种测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法 |
摘要 |
本发明提出一种测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法,其特征在于包括如下步骤:1)上载基底至工件台,上载具有可确定最佳焦面标记的掩模至掩模台;2)保持工件台Y向位置不变,利用干涉仪控制工件台在Z向上步进n次,工件台每步进一次,在X向同样步进一个步距,将掩模上所述标记曝光至基底上;3)n个高度曝光完毕后,工件台Y向步进一个步距,重复步骤2),直到曝光完整个基底,共曝光m组标记;4)将基底显影、烘干,再次上载到工件台上,读取n×m个标记的对准位置;5)根据所述对准位置计算标记的对准偏移量,根据对准偏移量与离焦量的关系计算得出每个Y向位置处y<sub>i</sub>的最佳焦点位置BF,则最佳焦点位置的变化量<img file="dest_path_image002.GIF" wi="123" he="15" />,其中,F‑T为工件台位置;6)根据m个位置y<sub>i</sub>和对应的镜面实际位置距离名义位置距离Δh<sub>i</sub>,拟合所述反射镜面形,其中,<img file="dest_path_image004.GIF" wi="88" he="20" />。 |
申请公布号 |
CN104777715B |
申请公布日期 |
2017.03.29 |
申请号 |
CN201410011377.7 |
申请日期 |
2014.01.10 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
孙朋 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅 |
主权项 |
一种测量光刻机垂向测量系统反射镜面形的方法,其特征在于包括如下步骤:1)上载基底至工件台,上载具有可确定最佳焦面标记的掩模至掩模台;2)保持工件台Y向位置不变,利用干涉仪控制工件台在Z向上步进n次,工件台每步进一次,在X向同样步进一个步距,将掩模上所述标记曝光至基底上;3)n个高度曝光完毕后,工件台Y 向步进一个步距,重复步骤2),直到曝光完整个基底,共曝光m组标记;4)将基底显影、烘干,再次上载到工件台上,读取n×m个标记的对准位置;5)根据所述对准位置计算标记的对准偏移量,根据对准偏移量与离焦量的关系计算得出每个Y向位置处y<sub>i</sub>的最佳焦点位置BF,则最佳焦点位置的变化量<img file="dest_path_image002.GIF" wi="87" he="15" />,其中,P为工件台位置;6)根据m个位置y<sub>i</sub>和对应的镜面实际位置距离名义位置距离Δh<sub>i</sub>,拟合所述反射镜面形,其中,<img file="dest_path_image004.GIF" wi="88" he="20" />。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |