| 发明名称 | 一种减少曝光焦距误差的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种减少曝光焦距误差的方法，包括：第一步骤：衬底沉积介质层，而且在介质层上依次形成激光反射涂层、底部抗反射层和光刻胶层；第二步骤：利用激光干涉仪来确定晶圆表面的形貌高度。其中，激光反射涂层对于与对准标记的颜色相同的激光具有防止穿透的阻挡效果。 | ||
| 申请公布号 | CN106548930A | 申请公布日期 | 2017.03.29 |
| 申请号 | CN201610924503.7 | 申请日期 | 2016.10.24 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 童立峰;戴韫青;王剑 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G03F7/207(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 智云 |
| 主权项 | 一种减少曝光焦距误差的方法，其特征在于包括：第一步骤：衬底沉积介质层，而且在介质层上依次形成激光反射涂层、底部抗反射层和光刻胶层；第二步骤：利用激光干涉仪来确定晶圆表面的形貌高度。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 | ||