发明名称 |
一种曝光装置 |
摘要 |
本发明公开一种曝光装置,在光路上,沿着光束传播方向,依次包括物面、焦面调整装置、平面反射镜组、第一戴森型光学系统、两个道威棱镜组成的棱镜组、平面反射镜组、第二戴森型光学系统、倍率调整装置、像面;在上述光路中,还包括像场调节机构。与现有技术相比较,本发明通过利用道威棱镜来实现对像场的旋转;由两块单片反射镜取代直角反射镜,可以分别调节像面的倾斜和焦面;在光路中放置由多个电极驱动的电活性透镜或液体镜头,可以实现镜片更复杂的面型变化,实现像质的高阶波像差调整。 |
申请公布号 |
CN106547172A |
申请公布日期 |
2017.03.29 |
申请号 |
CN201510590553.1 |
申请日期 |
2015.09.17 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
孙晶露;何经雷 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02B17/08(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅 |
主权项 |
一种曝光装置,其特征在于,在光路上,沿着光束传播方向,依次包括物面、焦面调整装置、平面反射镜组、第一戴森型光学系统、两个道威棱镜组成的棱镜组、平面反射镜组、第二戴森型光学系统、倍率调整装置、像面;在上述光路中,还包括像场调节机构。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |