发明名称 单片湿法作业的药液喷洒装置
摘要 本实用新型提供了一种单片湿法作业的药液喷洒装置,包括喷头,所述喷头相对硅片的喷射角度可调。本实用新型中,由于喷头的喷射角度可调,药液喷洒角度随硅片位置的喷射位置发生变化,如此使得硅片不同点上的速度不同,药液喷洒角度也不同,但相对速度可以相同,从而保证药液效果的均一性。
申请公布号 CN206059349U 申请公布日期 2017.03.29
申请号 CN201620438768.1 申请日期 2016.05.13
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 杨谊
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 智云
主权项 一种单片湿法作业的药液喷洒装置,其特征在于:包括喷头,硅片以自身圆心为圆心旋转,所述喷头沿着平行于硅片表面的方向移动,所述喷头相对硅片的喷射角度可调;还包括旋转驱动装置,所述喷头安装于所述旋转驱动装置,所述旋转驱动装置包括旋转驱动源、输出轴和传动轴,所述传动轴平行连接于所述输出轴,所述喷头安装于所述传动轴,所述驱动源驱动所述输出轴旋转,进而传动所述传动轴旋转,所述驱动源采用电机。
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