发明名称 |
单片湿法作业的药液喷洒装置 |
摘要 |
本实用新型提供了一种单片湿法作业的药液喷洒装置,包括喷头,所述喷头相对硅片的喷射角度可调。本实用新型中,由于喷头的喷射角度可调,药液喷洒角度随硅片位置的喷射位置发生变化,如此使得硅片不同点上的速度不同,药液喷洒角度也不同,但相对速度可以相同,从而保证药液效果的均一性。 |
申请公布号 |
CN206059349U |
申请公布日期 |
2017.03.29 |
申请号 |
CN201620438768.1 |
申请日期 |
2016.05.13 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
杨谊 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
智云 |
主权项 |
一种单片湿法作业的药液喷洒装置,其特征在于:包括喷头,硅片以自身圆心为圆心旋转,所述喷头沿着平行于硅片表面的方向移动,所述喷头相对硅片的喷射角度可调;还包括旋转驱动装置,所述喷头安装于所述旋转驱动装置,所述旋转驱动装置包括旋转驱动源、输出轴和传动轴,所述传动轴平行连接于所述输出轴,所述喷头安装于所述传动轴,所述驱动源驱动所述输出轴旋转,进而传动所述传动轴旋转,所述驱动源采用电机。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 |