发明名称 |
一种用于制备多层不等高微纳结构的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种柔性结构中的中的多层微纳结构制作方法。该方法将待制备的不等高微纳结构按照结构高度分类;采用PDMS对硅模版复型的方式制备最低高度部分的微纳结构;采用高保型转移方法,依次由低到高地将其余高度部分的微纳结构作为待转移PDMS结构,进行转移制备,直至最大高度的微纳结构部分制备完毕。本发明通过逐层转移单层结构到基层结构上的方法完成多层不等高微纳结构的制备。工艺过程简单,易于实现微纳结构集成,将广泛应用于仿生多层微纳结构的制作以及超疏水结构的制作中。 |
申请公布号 |
CN106542494A |
申请公布日期 |
2017.03.29 |
申请号 |
CN201610850447.7 |
申请日期 |
2016.09.26 |
申请人 |
西北工业大学 |
发明人 |
何洋;刘少维;杨儒元;周庆庆;曾行昌;朱宝;徐玉坤;刘谦;李小婷;王颖;苑伟政;吕湘连 |
分类号 |
B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81C1/00(2006.01)I |
代理机构 |
西北工业大学专利中心 61204 |
代理人 |
陈星 |
主权项 |
一种用于多层不等高微纳结构制作方法,其特征在于,包括如下三大步骤:步骤一:将待制备的不等高微纳结构按照结构高度分类,得到高度分别为h1,h2……hn的结构,h1<h2<……<hn,n大于或者等于2;步骤二:采用PDMS对硅模版复型的方式制备高度为h1部分的微纳结构;具体过程如下:步骤三:采用高保型转移方法,依次将高度为h2,……hn部分的微纳结构作为待转移PDMS结构,进行转移制备,直至最大高度hn的微纳结构部分制备完毕。 |
地址 |
710072 陕西省西安市友谊西路127号 |