发明名称 一种可被X射线激发的长余辉材料及其应用
摘要 本发明公开了一种可被X射线激发的长余辉材料,其化学通式为:M<sub>x</sub>N<sub>(1‑a‑b)</sub>Z<sub>y</sub>:aRe,bLn;其中M为Li、Na、K、Rb或Cs中的至少一种;N为Y、Gd、Al、In、Sc、Ga或Lu中的至少一种;中的至少一种;Z为F、Cl、Br或I中的至少一种;Re为Pr、Ce中至少一种;Ln为Mn、Cr、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tn、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Yo或Lu中的至少一种;0.001≤a≤0.1,0≤b≤0.05;x为1或3,y为4或6;当x=1时,y=4;当x=3时,y=6。本发明提供的材料能在X射线激发下发光且余辉衰减时间较长,能够被很好的应用于生物荧光标记成像,为现有荧光成像应用材料提供更多的选择,其作为新型的分子探针材料在生物医学成像、诊断和治疗中具有广泛的应用前景。
申请公布号 CN106544028A 申请公布日期 2017.03.29
申请号 CN201610978260.5 申请日期 2016.11.08
申请人 河北大学 发明人 杨艳民;张伟;魏军;杨敬伟
分类号 C09K11/85(2006.01)I;C09K11/64(2006.01)I;C09K11/62(2006.01)I 主分类号 C09K11/85(2006.01)I
代理机构 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人 白利霞;苏艳肃
主权项 一种可被X射线激发的长余辉材料,其特征在于,其化学通式为:M<sub>x</sub>N<sub>(1‑a‑b)</sub>Z<sub>y</sub>: aRe,bLn;其中M为Li、Na、K、Rb或Cs中的至少一种;N为Y、Gd、Al、In、Sc、Ga或Lu中的至少一种;中的至少一种;Z为F、Cl、Br或I中的至少一种;Re为Pr、Ce中至少一种;Ln为Mn、Cr、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tn、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Yo或Lu中的至少一种;0.001≤a≤0.1,0≤b≤0.05;x为1或3,y为4或6;当x=1时,y=4;当x=3时,y=6。
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