一种ITO基透明导电薄膜近红外波段透射增强的制备方法

摘要

本发明提供了一种近红外波段透射增强特性的ITO基透明导电薄膜的制备方法，将石英基片放置于镀膜夹具；在一定真空度及烘烤温度下，采用电子束蒸发法进行沉积镀膜，先后在石英基片上分别沉积ITO层和Cu层以形成Cu/ITO复合薄膜；将制备好的Cu/ITO复合薄膜放置于电子束辐照系统中，待真空室抽至一定真空度时，在一定功率下用电子束辐照轰击复合薄膜的表面一定时间使其改性，冷却即可得到所述具有近红外波段透射增强特性的Cu/ITO复合薄膜。本发明制备的Cu/ITO复合薄膜表现近红外波段透射增强，可通过控制电子束流大小及辐照时间控制其近红外透过率，操作方法及流程简单，可控性强。

主权项

一种近红外波段透射增强特性的ITO基透明导电薄膜的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：1）将石英基片放置于镀膜夹具中；2）在真空度均大于5×10^‑4Pa、300~400℃烘烤的温度下，以20~40r/min的速率自转的石英基片上采用电子束蒸发法先沉积ITO层；待真空室温度降至室温时，再沉积Cu层以形成Cu/ITO复合薄膜；3）将制备好的Cu/ITO复合薄膜放置于电子束辐照系统中，待真空室抽至真空度大于5×10^‑4Pa时，在100‑150W的功率下用电子束辐照轰击复合薄膜的表面5~30min使其改性，并冷却至室温即可得到所述具有近红外波段透射增强特性的Cu/ITO复合薄膜。