一种形态可控柔性微纳米柱阵列的制造方法

摘要

一种形态可控柔性微纳米柱阵列的制造方法，先在基底表面涂覆水溶胶粘附层，然后在水溶胶粘附层上通过光刻工艺获取微纳米图形化的光刻胶，再在光刻胶表面通过刮涂法得到微纳米颗粒图形化，去除光刻胶，得到微纳米颗粒的图形化模板；将聚合物涂覆在衬底表面，然后对衬底进行预加热；将图形化模板表面的微纳米颗粒接触并嵌入聚合物；再提拉图形化模板，使聚合物被拉伸为微纳米柱阵列，然后对衬底加热使微纳米柱阵列固化；再加热图形化模板，使微纳米颗粒脱离水溶胶粘附层，得到顶端带有微纳米颗粒的微纳米柱阵列；最后将微纳米柱阵列顶端的微纳米颗粒去除，获得聚合物微纳米柱阵列，本发明具有操作简单、成本低、周期短的优点。

主权项

一种形态可控柔性微纳米柱阵列的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：1)先在基底表面涂覆水溶胶粘附层，然后在水溶胶粘附层上通过光刻工艺获取微纳米图形化的光刻胶；再在光刻胶表面通过刮涂法得到粒径D的微纳米颗粒图形化，然后去除光刻胶，得到微纳米颗粒的图形化模板；2)将聚合物涂覆在衬底表面，然后对衬底进行预加热，预加热参数：温度60‑90℃，时间为2‑10分钟；3)将图形化模板表面的微纳米颗粒接触并嵌入聚合物中，嵌入深度T＝1‑500μm，微纳米颗粒的粒径D与其嵌入聚合物嵌入深度T的关系为：D＞T＞0；4)再提拉图形化模板，使聚合物被拉伸为微纳米柱阵列，提拉方向与水平方向夹角为α，0＜α＜180°，提拉速率为10‑1000μm/s，时间为1‑10s，然后对衬底加热使微纳米柱阵列固化，加热温度100‑180℃，时间为10‑30分钟；5)再加热图形化模板，加热温度为100‑200℃，时间为1‑5分钟，使微纳米颗粒脱离水溶胶粘附层，得到顶端带有微纳米颗粒的微纳米柱阵列；6)最后将微纳米柱阵列顶端的微纳米颗粒去除，获得聚合物的微纳米柱阵列。