发明名称 一种多铁性Bi<sub>0.98‑x</sub>Sr<sub>0.02</sub>RE<sub>x</sub>Fe<sub>0.97</sub>Mn<sub>0.03</sub>O<sub>3</sub>‑CuFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 复合膜及其制备方法
摘要 一种多铁性Bi<sub>0.98‑x</sub>Sr<sub>0.02</sub>RE<sub>x</sub>Fe<sub>0.97</sub>Mn<sub>0.03</sub>O<sub>3</sub>‑CuFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub>复合膜及其制备方法,该复合膜包括复合在一起的Bi<sub>0.98‑x</sub>Sr<sub>0.02</sub>RE<sub>x</sub>Fe<sub>0.97</sub>Mn<sub>0.03</sub>O<sub>3</sub>晶态膜和CuFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub>晶态膜;制备时先分别配制Bi<sub>0.98‑</sub><sub>x</sub>Sr<sub>0.02</sub>RE<sub>x</sub>Fe<sub>0.97</sub>Mn<sub>0.03</sub>O<sub>3</sub>前驱体溶液和CuFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub>前驱液;然后在基片上旋涂制备多层CuFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub>膜,再在CuFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub>膜上旋涂制备多层Bi<sub>0.98‑</sub><sub>x</sub>Sr<sub>0.02</sub>RE<sub>x</sub>Fe<sub>0.97</sub>Mn<sub>0.03</sub>O<sub>3</sub>膜,即得目标产物。本发明设备要求简单,制备的薄膜均匀性好,掺杂量易控,提高了薄膜的铁电和铁磁性能,有效降低了薄膜的漏电流密度。
申请公布号 CN104478235B 申请公布日期 2017.03.29
申请号 CN201410764963.9 申请日期 2014.12.11
申请人 陕西科技大学 发明人 谈国强;晏霞;任慧君;夏傲
分类号 C03C17/34(2006.01)I 主分类号 C03C17/34(2006.01)I
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人 蔡和平
主权项 一种多铁性Bi<sub>0.98‑x</sub>Sr<sub>0.02</sub>RE<sub>x</sub>Fe<sub>0.97</sub>Mn<sub>0.03</sub>O<sub>3</sub>‑CuFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub>复合膜,其特征在于:包括复合在一起的下层膜和上层膜,其中下层膜为CuFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub>晶态膜,上层膜为Bi<sub>0.98‑x</sub>Sr<sub>0.02</sub>RE<sub>x</sub>Fe<sub>0.97</sub>Mn<sub>0.03</sub>O<sub>3</sub>晶态膜,RE为La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb或Lu,x=0.03~0.15;Bi<sub>0.98‑</sub><sub>x</sub>Sr<sub>0.02</sub>RE<sub>x</sub>Fe<sub>0.97</sub>Mn<sub>0.03</sub>O<sub>3</sub>晶态膜的晶型为三方相,空间结构群为R3m:R,晶胞参数为a=b=c=3.9634,α=β=γ=89.72°;CuFe<sub>2</sub>O<sub>4</sub>晶态膜的晶型为立方相,空间结构群为Fd‑3m(227)。
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