发明名称 | 栅网及离子源 | ||
摘要 | 本实用新型涉及一种栅网,用于离子源的离子光学系统,所述栅网设有带栅孔的栅孔区,所述栅网上自栅孔区边缘向外呈辐射状开设有多个热应变槽,且所述热应变槽贯穿所述栅网上下表面。本实用新型还提供了使用该栅网的离子源。本实用新型通过在栅网上开设辐射状的热应变槽,彻底地解决耐熔金属平面栅网的热变形问题,还能保持离子束束流的均匀度和稳定度,满足长期和反复高温环境离子源工作,提高离子源性能的重复性和离子束加工的工艺均匀性。 | ||
申请公布号 | CN206059340U | 申请公布日期 | 2017.03.29 |
申请号 | CN201621023261.6 | 申请日期 | 2016.08.31 |
申请人 | 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司 | 发明人 | 刁克明 |
分类号 | H01J37/08(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/08(2006.01)I |
代理机构 | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人 | 周娇娇;谭辉 |
主权项 | 一种栅网,用于离子源的离子光学系统,其特征在于,所述栅网设有带栅孔的栅孔区,所述栅网上自栅孔区边缘向外呈辐射状开设有多个热应变槽,且所述热应变槽贯穿所述栅网上下表面。 | ||
地址 | 100071 北京市丰台区小屯路150号 |