| 摘要 |
膜厚の測定結果を成膜工程に直ぐに反映させることができる薄膜製造装置と薄膜製造方法を提供する。一つの成膜ユニット１１の成膜室２２内で成膜対象物にパターニングされた薄膜を形成した後、他の成膜ユニット１１の成膜室２２に移動させてパターニングされた他の薄膜を形成する際に、成膜ユニット１１の間に位置する第一又は第二の移動室２１，２３の中で、形成された薄膜のうち、成膜対象物表面に接触している測定用薄膜の部分に、送光部３２から偏光を照射し、反射光を受光部３３で受光し、エリプソメータによって薄膜の膜厚を求める。測定結果が異常値である場合には、異常値を示す薄膜を形成する成膜室２２の運転を停止させる。複数の成膜室２２で異なる薄膜を形成する際に、各薄膜の測定用部分は離間して位置するようにマスクを形成しておくと、二層以上の薄膜形成後にも膜厚測定を行うことができる。 |
