| 摘要 |
【課題】小型の基板の洗浄と乾燥の両工程を行うことが可能であり、且つ体積の増大を防止し、更に小型の基板であっても乾燥工程時に充分な遠心力を加えて基板の乾燥を行うことが可能であり、高い基板清浄度が達成される洗浄装置を提供する。【解決手段】表面積が25.8064ｃｍ2未満の基板を洗浄及び乾燥する１つのチャック装置を備え、更に外形の体積が1.0ｍ3未満であり、乾燥時に151ｇ以上の遠心力を基板に加える洗浄装置である。チャック装置は基板を回転させる回転軸を備え、その回転軸の軸心に対して基板を偏心して配置し基板を乾燥させる。更にチャック装置を回転する回転機構を備え、回転機構によりチャック装置が回転され、基板を偏心によりスピン乾燥する。又は、チャック装置が回転軸を有する円盤台であり、円盤台の中心以外に基板を吸着して保持する真空チャックを備える。【選択図】図３ |
