发明名称 真空はんだ処理装置及びその制御方法
摘要 本発明の真空はんだ処理装置及びその制御方法は、チャンバーを目標の真空度に真空引きすることにより溶融状態のはんだからボイドを脱泡・脱気する際に、フラックス飛沫や、はんだ飛散を防止しつつ、短時間に真空引きできるようにするために、チャンバーを所定のポンプ出力で真空引きしたときの真空度(圧力P)に対する真空引き時間(時間t)をプロットした傾きθの真空引き制御特性を予め複数(#1〜#4)準備しておき、初期設定された真空引き制御特性の傾きθに基づいてポンプ出力が小さい真空引き制御特性からポンプ出力が大きい真空引き制御特性へ切り替えるようにポンプの真空引き制御を実行する。
申请公布号 JPWO2015097796(A1) 申请公布日期 2017.03.23
申请号 JP20140517313 申请日期 2013.12.25
申请人 千住金属工業株式会社 发明人 檜山 勉;井上 裕之;木本 俊輔;加賀谷 智丈
分类号 B23K1/008;B23K1/00;B23K31/02;H05K3/34 主分类号 B23K1/008
代理机构 代理人
主权项
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