| 摘要 |
【課題】スパッタ時のパーティクルを減少させ、スパッタ膜の製品歩留りの向上を図ることを可能とし、ＭＴＪ素子作製をはじめ、ＨＤＤ用合金等の磁気記録用媒体等の薄膜製造などに用いるＣｏＦｅＢ系スパッタリングターゲット材の提供。【解決手段】ａｔ．％で、Ｂを１０〜５０％含有し、残部がＣｏとＦｅの少なくとも１種、不可避的不純物からなるスパッタリングターゲット材において、（ＣｏＦｅ）2Ｂ（２００）のＸ線回折強度［Ｉ〔（ＣｏＦｅ）2Ｂ〕］と（ＣｏＦｅ）3Ｂ（１２１）のＸ線回折強度［Ｉ〔（ＣｏＦｅ）3Ｂ〕］との強度比［Ｉ〔（ＣｏＦｅ）3Ｂ〕／Ｉ〔（ＣｏＦｅ）2Ｂ〕］が１．５０以下であるＣｏＦｅＢ系合金スパッタリングターゲット材。【選択図】図１ |
