| 摘要 |
【課題】強い磁束で、より狭い範囲の膜厚を測定して、ウェハの研磨平坦性を改善する。【解決手段】導電性膜が形成された基板の近傍に配置される渦電流センサ５０は、底面部６１ａと、底面部６１ａのに設けられた磁心部６１ｂと、底面部６１ａの周囲に設けられた周壁部６１ｃとを有する、磁性体であるポットコア６０を有する。さらに、磁心部６１ｂに配置され、導電性膜に渦電流を形成する励磁コイル６２と、磁心部６１ｂに配置され、導電性膜に形成される渦電流を検出する検出コイル６３とを有し、励磁コイル６２には、周波数が２ＭＨｚ以上の電気信号が印可される。磁性体の材料は、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライトであり、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライトの比誘電率は５〜１５であり、比透磁率は１〜３００であり、磁心部の外形寸法は５０ｍｍ以下である。【選択図】図４ |
