发明名称 静電噴霧装置用ブース、及び、そのブースを備える静電噴霧装置
摘要 【課題】静電気力を利用して液体を離脱霧化する静電噴霧装置の噴霧状態が不安定にならない静電噴霧装置用ブースを提供する。【解決手段】本発明の静電気力によって液体を帯電状態とするとともに帯電した液体を液体噴霧部から離脱させ、被塗物に液体を噴霧する静電噴霧装置用ブースは、液体を噴霧する状態での被塗物の電位をA(V)、液体噴霧部の電位をB(V)、及び、ブースの電位をC(V)としたときに、液体噴霧部の電位B(V)及びブースの電位C(V)が、被塗物の電位A(V)と異なる電位となり、被塗物の電位を基準とした液体噴霧部の電位差D=B−A(V)の絶対値が、被塗物の電位を基準としたブースの電位差E=C−A(V)の絶対値よりも大きく、且つ、被塗物の電位A(V)を基準とした液体噴霧部の電位B(V)の極性の方向と被塗物の電位A(V)を基準としたブースの電位C(V)の極性の方向が同じできる材料がブースに用いられている。【選択図】図1
申请公布号 JP2017056435(A) 申请公布日期 2017.03.23
申请号 JP20150185239 申请日期 2015.09.18
申请人 アネスト岩田株式会社 发明人 佐藤 和昭;柿崎 翔志
分类号 B05B5/08;B05B5/025 主分类号 B05B5/08
代理机构 代理人
主权项
地址